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刻蚀微纳加工

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RIE等离子刻蚀(研制)

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产品概述:

反应离子刻蚀(RIE)是一种制造微纳米结构的等离子刻蚀技术。在刻蚀过程中,低压等离子体产生了高能离子和自由基,与样品表面反应,产生挥发性的化合物。这些挥发性化合物从样品表面抽走后,样品表面就实现了同向性或异向性的形貌。许多材料都能使用RIE刻蚀,并通过优化刻蚀参数(腔体压力、射频功率、气体流量比等)获得更好效果。

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