万博体育max手机版登录-【主页】

刻蚀微纳加工

当前位置: 产品中心 > 刻蚀微纳加工 >

Research-RIE干法刻蚀

浏览量:591

产品概述:

反应离子刻蚀(RIE)是一种制造微纳米结构的等离子刻蚀技术。在刻蚀过程中,低压等离子体产生了高能离子和自由基,与样品表面反应,产生挥发性的化合物。这些挥发性化合物从样品表面抽走后,样品表面就实现了同向性或异向性的形貌。许多材料都能使用RIE刻蚀,并通过优化刻蚀参数(腔体压力、射频功率、气体流量比等)获得更好效果。

详细信息

真空腔体:SUS304不锈钢钟罩式或前开门,腔体双层水冷,根据客户需求可定制,公司标准产品为φ300φ500φ600φ900mm

真空系统:涡轮分子泵为主泵,油封式旋片机械泵+机械增压罗茨泵机组为前级真空系统,可选配全干式无油真空系统;

极限压力:优于5X10-5Pa,漏率优于10-6Pa.L/S,除常开部件外均采用CF金属密封连接,其电气引入均采用陶瓷封结部件

热丝加热组件:加热选用钨丝,加热功率根据客户需求定制,钨丝表面温度2000℃,热丝与基片之间距离手动可调,加热电压:48V,选用优质变压器和功率控制器

工件盘:根据客户需求定制,基片安装位置与分气系统距离可调,科研级为全盘式工件盘,工业级根据客户实际需求定制;
      射频电源:全固态射频电源,自动和手动兼容匹配器;

基片偏压:可加-200V-0V可调偏压电源;(选配)

基片烘烤:烘烤最高温度700℃,PID闭环控制,温控精度1℃,过冲不超高2℃,升温曲线可调

气路系统:配置气体质量流量计4套,4-20MA反馈回路,φ6.35BA级毛细气路控制系统,气动VCR全金属密封管路及阀门;
      尾气处理系统:客户根据工艺需求自行购买;

辅助系统:配置空气压缩机1台,科研级冷水机一台。

特别说明:根据用户不同的工况和工艺要求,公司愿与客户联合研发,共享知识产权。