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弥补短板迅猛发展,真空镀膜机技术的演变

时间:2022-02-18 23:21:37   点击:569

在上世纪六十年代左右,国际上将CVD(化学气相沉积)运用到合金硬质刀具上,这也便是真空镀膜机的真空涂层技术起步。在这之后,由于这项技术种类较为单一,并且需要在高于一千摄氏度的高温下进行,有着很大的局限性,因此并没有得到很大程度的发展。


然而在20世纪七十年代中,PVD(物理气相沉积)技术出现则改变了这一行业。在之后二三十年的时间中,真空镀膜机的PVD涂层技术相比之前,发展的速度可以称之为迅猛。

归根结底,技术上的优势弥补了许多短板。PVD在环保方面,由于在真空密封的腔体中成膜,对环境的污染可以说是微乎其微。而在色彩方面,各种颜色的光亮能够满足各类装饰的修。其外,硬度的表现也强过各种其他方式。并且还具有高能与低温两种特点,加上应用范围广阔和几乎能在任何基材上镀膜的特点。发展得如此迅猛也就不足为奇。